電解處（chù）理是（shì）大家（jiā）在電鍍工業中常用的去除雜質的方法（fǎ）。電解（jiě）處理亦是一個電鍍過程，不過它不是以（yǐ）獲（huò）得良好電鍍層（céng）為目的，而是以去除雜質(或調整鍍液成分含量)為目的。所不同的隻是在陰極上不吊掛零件，而是改為吊掛以去除雜質而製作的電解板(又稱假陰極)。在通電的情況（kuàng）下，使雜質在陰極（jí）電解（jiě）板上沉積、夾（jiá）附或（huò）還原成相對無害的物質。在少數情況下，電（diàn）解去除雜質也有在陽極上進（jìn）行的，使某些能（néng）被（bèi）氧化（huà）的雜質，在通電的情況（kuàng）下，到達陽極上（shàng）氧化為氣體（tǐ）逸出或變為相對無害的物（wù）質（zhì）。

　　一、電解條件的選擇

　　這裏所指的電解，目（mù）的是要去除鍍液中的雜質，但（dàn）是在電（diàn）解去除雜質的同時，往往（wǎng）也伴（bàn）隨有溶液中主要金屬離子的放電沉（chén）積。為了提高去除雜質的速率，減（jiǎn）慢溶液中主要（yào）金（jīn）屬離子的沉積速率，就（jiù）要注意電解處理的操作條件。

　　① 電流密度：電解處理時，以控（kòng）製多大的電流密度為好，原則上要（yào）按照電鍍時雜質起不良影響的電流密度範圍。也就是說，在電鍍過程中，若雜質的影響反映在低電流（liú）密（mì）度（dù）區，那麽電解處理時應（yīng）控製在低電（diàn）流密度下進行，假使雜質的影響反映在高電流密度區，則應選用高電流密度進（jìn）行電解；如果雜質在高電流密度區和低（dī）電流密度（dù）區都有影（yǐng）響，那麽可先用高電流密度電解處理一段時間，然後（hòu）再改用低電流密度電解處理，直至鍍液恢複正（zhèng）常。在（zài）一般情況下，凡是用低電流密度（dù）電解可以去除的雜質，為了減少鍍液中主要放電（diàn）金屬離子的沉積，一般都采用低電流（liú）密度電解。事實上，電鍍生產（chǎn）中（zhōng），多數雜質的影響反映在低電流密（mì）度區，所以通常電解處（chù）理的電流密度控製在0.1A／dm2～0.5A／dm2之間。

　　② 溫度和pH值：電解處理時溫度和pH的選擇，原則上也是要根據電鍍時（shí）雜質起不良影響較大的溫度和pH範（fàn）圍。例如鍍（dù）鎳溶液中的銅雜質（zhì）和NO3-雜質，在pH較低時的影響較（jiào）大，所（suǒ）以電解去除鍍鎳溶液中的銅雜質和NO3-雜質時，應選（xuǎn）用低pH進行電解，在這樣的條件下，去除雜質的速率較快。有些雜質（zhì）在電解（jiě）過程中會分解為氣體(如NO3-在陰極上還原（yuán）為氮氧化物或氨，Cl-在陽極上氧化為（wéi）Cl2，等，這時就應選用高溫電解，使電解過（guò）程中形成（chéng）的氣體揮發逸出(氣體（tǐ）在溶（róng）液中（zhōng）的溶（róng）解度，一般隨溫度升高而降低)，從而防止它溶解於水（shuǐ）而（ér）重（chóng）新沾汙（wū）鍍液。

　　按照一般（bān）規律，隨著鍍液溫度（dù）的升高，電解去除雜質的速率也增大，所以當加溫對鍍液主要（yào）成分沒（méi）有影響時，電解處理宜在加溫下進行。但究竟以控製在（zài）什麽溫度為好，最好通（tōng）過（guò）小試驗確定。

　　③ 攪拌：電解處（chù）理既然是依靠雜質在陰極(或陽極)的表麵上反應而被除去，那麽就應創造條件，使雜質與電極表麵有充（chōng）分的接觸機會。攪拌可以加速雜質運動，使它與電極的接觸機會（huì）增多，所以為了提高處理效果，電解時應攪拌鍍液。

　　二、電解處理的要求

　　① 首先要查明有害雜質是否來源於電解過程：電解處理可以（yǐ）去除某（mǒu）些雜質，但有時也會產生雜質。例如有害雜質來源於不純的陽極，電解處理時仍用這種陽極，那（nà）麽隨著電解過程的（de）進行，雜（zá）質會越積越多；又如雜質來源（yuán）於某些化合物在電極上（shàng）的分解，那（nà）麽電解將使這類分解產物逐漸增多。這樣的電解（jiě）處理，不但不能淨化鍍液，反而會（huì）不斷加重鍍液的汙染。因此，在電解處理前，要進行必要的檢查，預防（fáng）處（chù）理過程中產生（shēng）有害雜（zá）質。

　　電解用的陰極（jí）(假陰極)麵積要盡可能大：用（yòng）電解法去除雜質（zhì），大（dà）多是在陰極表麵上（shàng）進行的，所以增（zēng）大（dà）陰（yīn）極麵積，可以提（tí）高去除雜質（zhì）的效率n同時為（wéi）了（le）在不同的電流密度部位電解去除鍍液中不同雜質或同（tóng）一種雜質，要求電解用的陰極做成凹（āo）凸的表麵(如瓦（wǎ）楞形)，這（zhè）樣可以提高電解處（chù）理的（de）效果。但陰極上的凹處（chù）不宜太深，以防止電流密度（dù）過小而（ér）使雜質不能在這些部位（wèi）沉積（jī）或還原（yuán）。

　　③ 電解過程中，要定時刷洗陰極：由於電解處理（lǐ）的（de）時間一般都比較長，在長時間的電解（jiě）過程中，陰極上可能會產生疏鬆的沉積物（wù），它（tā）的脫落會重新沾汙鍍液，所以在電解一段時間後，應將陰極取出刷洗，把陰極上疏鬆或不良的沉積物刷去後再繼續電解。

　　④ 電解處理前，最好先做（zuò）小試驗估計一下電解處理的效果和時間：有些（xiē）雜質，用電解處理很難（nán）除去，若（ruò）盲目地采用電解處理，可能（néng）花了很長時間也不能使鍍液恢複（fù）正常。